VON ARDENNE异质结设备出货已超1.5GW

作者: | 发布日期: 2017 年 11 月 30 日 15:46 | 分类: 展览会议

VON ARDENNE异质结设备出货已超1.5GW

  • 第二届N型晶硅电池及双面发电论坛将于12月12-13日在常州召开
  • VON ARDENNE领导专家将出席大会并作精彩演讲
  • 介绍为高效太阳电池定制的新型真空镀膜设备:从研发平台到超高量产

家族式企业 VON ARDENNE 为玻璃、硅晶片、金属带和聚合物薄膜等材料上的真空镀膜开发和生产工业设备。凭借超过 55 年的电子束工艺和真空镀膜经验以及 40 余年的溅射工艺经验,VON ARDENNE 成为 PVD 薄膜工艺和真空工艺领域领先的设备和技术供应商之一。

VON ARDENNE 已经成功地调整这种能力,从而适应异质结太阳能电池技术的特定要求。此外,VON ARDENNE 还相应地优化了其用于透明导电氧化物和其他电极层沉积的设备,实现了很高的迁移率,并且沉积时不会对敏感的电池结构造成任何溅射损坏。通过安装产能超过1.5GWp 的大批量 HJT 生产设备基地,VON ARDENNE 证明了其能提供全球最佳的解决方案

为了保持领先技术供应商的地位,VON ARDENNE 运营自有的技术和应用中心,旗下超过 50 名物理学家和工程师,并且拥有约 10 个不同的镀膜系统,适用于各种完全不同的沉积任务。在这里,VON ARDENNE 的专家已经努力在非常短的时间内掌握了 HJT 技术的专业知识,并且根据客户的特定要求和应用进行了调整。客户若是在寻找能够以最高效能水平支持所有当前和未来太阳能电池技术以及所有高效率太阳能电池概念的镀膜解决方案,那么 VON ARDENNE 就是理想的合作伙伴。

凭借丰富的经验,VON ARDENNE 开发了多个设备平台,可以在硅基片上的透明导电氧化物、金属或金属氧化物的基础上沉积性能卓著的电极层。可用的系统 SCALAXEA|nova® XENIA 涵盖从实验室规模到工业生产、从小型研发工具直到大批量生产设备的各种应用。由于采用 VON ARDENNE 专有的大面积溅射技术,这些系统可以保证最高的生产率和最低的拥有成本。

由亚化咨询主办的第二届N型晶硅电池及双面发电论坛将于2017年1212-13在常州召开。VON ARDENNE 将参会并做重要演讲,演讲题目为“New vacuum deposition equipment for high efficiency solar cells: From R+D to ultra-high volume” 介绍相关的经验以及设备状况。

此外,来自松下天合、晶科、阿特斯、中来、林洋、晋能、中智、隆基、中科院电工所、中科院微系统所、中科院微电子所、凯世通、SemcoMeco的专家也将参会并作重要报告,充分探讨N型电池产业化进展。

如需参会或索取会议资料,敬请联系:陈小姐021-68726606-109,13701609248(微信同号)或E-mail至:Joanna_chen@chemweekly.com

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